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创芯集成电路请求半导体结构及其构成办法专利可避开测验结构剥离划片道

来源自:开云体育网址    点击数:1   发布时间:2025-05-08 04:13:23

  金融界2025年2月22日音讯,国家知识产权局信息数据显现,浙江创芯集成电路有限公司请求一项名为“半导体结构及其构成办法”的专利,公开号CN 119495679 A,请求日期为2023年8月。

  专利摘要显现,本说明书施行例供给一种半导体结构及其构成办法,其间,所述半导体结构包含:基底,包含多个芯片区域以及用于分隔各芯片区域的划片道,其间,所述划片道上构成有凹槽结构;测验结构, 适于对所述芯片区域进行电功能测验,所述测验结构包含榜首测验部和第二测验部,其间,所述榜首测验部嵌入所述凹槽结构内,所述第二测验部坐落所述榜首测验部之上。选用上述计划,可避开测验结构剥离划片道,进步半导体结构功能。

  天眼查资料显现,浙江创芯集成电路有限公司,成立于2020年,坐落杭州市,是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱182000万人民币,实缴本钱134000万人民币。经过天眼查大数据分析,浙江创芯集成电路有限公司共对外出资了1家企业,参加招投标项目246次,知识产权方面有商标信息14条,专利信息211条,此外企业还具有行政许可4个。