清华大学2017年敞开的SSMB-EUV光源项目在全球来看仍是一项前沿的光学技能讨论研讨。现在仅从原理上验证了SSMB光源可应用于EUV，间隔真实能用于光刻体系仍有间隔

　　材料图：北京，怀柔科学城高能同步辐射光源项目。近来，国家开发出资集团部属我国电子工程设计院有限公司发声明称，短视频渠道热传的“国产光刻机工厂”项目配图为该院在北京怀柔建造的北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。图：视觉我国

　　【财新网】遭到网络热炒的“国产光刻机工厂”被证实是一场乌龙。近来，国家开发出资集团部属我国电子工程设计院有限公司（下称“我国电子院”）发声明称，短视频渠道热传的“国产光刻机工厂”项目配图为该院在北京怀柔建造的北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。该项目是国家“十三五”严重科学技能基础设施，是我国第一台高能量同步辐射光源，2019年就开端了建造，将于2025年投入运用。

　　据我国电子院介绍，HEPS项目是经过加快器将电子束加快到6GeV（十亿电子福特，能量单位），然后注入周长1360米的贮存环以光速保持工作，电子束在贮存环的不同方位会沿偏转轨迹切线的方向，释放出安稳、高能量、高亮度的光，即同步辐射光。同步辐射光可穿透物质、深化内部进行立体扫描，从分子、原子的标准调查微观世界，相当于一台巨型X光机，而并不是网传的光刻机工厂。

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